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■日時 2005年6月24日(金) 13:30-
   
■場所 シグマ光機株式会社 東京本社5F会議室(東京、両国)
JR両国駅東口から徒歩約10分
大江戸線両国駅A5出口から徒歩約2分
詳細は、同社HPをご覧下さい。
http://www.sigma-koki.com/company/office.html
   
■講演
13:00- 受付開始
13:20 開会ご挨拶
13:30-17:00 懇談会(講演会+見学会)
 
講演1) 13:30〜14:30
演題: 微小領域表面の電子状態分析のためのパルス励起EUV光電子分光法EUPSの開発
講師: 富江 敏尚 様  (産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター)
概要:  レーザー生成プラズマ(LPP)を光源とする、EUV励起光電子分光法EUPS を考案し、実用化のための研究を10年ほど続けている。EUPSでは、分光器を用い ずにLPPの線スペクトルで試料を励起し、飛行時間法で光電子の分光を行うので、 光源と電子の二つの分光の効率が極めて高く、偏向電磁石放射光でも実現できな いサブμm空間分解能が可能である。これまでに、1μm程度の分解能の光電子信 号強度一次元マッピングを得ている。
  EUPSは、表面一原子層に感度が高い、計測による試料変質が抑制できる、ナノ 秒の時間分解能がある、という特長もあり、材料表面での化学反応の新たな分析法して活躍すると期待している。パルスレーザー励起の表面光起電力効果から、 半導体内部の極微量不純物や欠陥の情報を得ることも可能である。
  本講演では、サブμmEUPSシステムの開発状況と、サブmmシステムによる極薄 膜絶縁体の電子捕獲中心密度やSiのバンド曲がりの評価の実験結果、の紹介を行
う。
   
講演2) 14:45〜15:45
演題: レーザープラズマ加速器開発の最近の進展
講師: 三浦 永祐 様  (産業技術総合研究所)
概要: 高強度レーザーパルスがプラズマ中に励起するプラズマ波の作り出す静電場を用いた粒子加速(レーザープラズマ加速)の研究が盛んに進められている。
レーザープラズマ加速では、加速電界が従来型の高周波加速器の1000倍以上高く、 加速器の小型化が期待される。加速長が数mm程度で数100MeVにも達する電子加 速も報告されているが、これまでに得られている電子ビームのエネルギー広がりは広く、単色ビーム発生がレーザープラズマ加速器実現に向けての大きな課題となっていた。昨年、数研究機関より単色電子ビーム加速が報告され、レーザープラズマ加速器実現に向けての大きな一歩が印された。産総研の単色電子ビーム加速実験を中心に、レーザープラズマ加速器開発の最近の進展について紹介する。
   
講演3+見学会)
  シグマ光機株式会社フェムト秒光学部品の紹介および展示場見学
   
17:30-
  意見交換会
   
■お問合せ先 なお、懇談会についてのお問い合わせは担当者(谷上)までお願いいたします。

E-mail: tanigami@chem.s.u-tokyo.ac.jp
TEL: 03-5841-4334